Integrative
Capabilities
Quality
Advanced
Production
Execution

NF3

內容簡介

三氟化氮(NF3)是鹵化氮中最穩定的,可在鈣的催化下由氨氣與氟氣製成可以用作氟化氫雷射器的氧化劑,半導體、液晶和薄膜太陽能電池生產過程中的蝕刻劑。

說明

三氟化氮(NF3)是一種優良的等離子蝕刻氣體,具有優異的蝕刻速率和選擇性,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑 ; 同時在晶片製造、高能雷射方面獲得到了廣大的運用。

產品聯絡人

吳逸民

高材營一部
資深經理

崇越科技股份有限公司

300096 新竹市科學園區工業東九路12號6樓
TEL: (03)564-2132 ext.3315
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