Description
用途:
半導體、光電設備腔體表面處理;光學玻璃添加劑;觸媒原料;螢光粉
規格:
尺寸:10nm~100um;形狀、成分組成:請來電詢問
稀土氧化物(O)、氟化物(F)或其他化合物粉末。
半導體、光電設備腔體表面處理;光學玻璃添加劑;觸媒原料;螢光粉
尺寸:10nm~100um;形狀、成分組成:請來電詢問
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