Integrative
Capabilities
Quality
Advanced
Production
Execution

特殊氣體

內容簡介

代理科慕-C4F8 Clean gas,在T/F CVD Chamber clean。

描述

用途:

取代C2F6, C3F8之應用;並可降低PFC排放量及氣體減量。

規格:

For In-Situ tool(6″ and 8″) chamber clean

產品聯絡人

吳逸民

高材營一部
資深經理

崇越科技股份有限公司

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