Description
用途：
取代C2F6, C3F8之應用；並可降低PFC排放量及氣體減量。
規格：
For In-Situ tool(6″ and 8″) chamber clean
特殊氣體
內容簡介
代理科慕-C4F8 Clean gas，在T/F CVD Chamber clean。
產品聯絡人
30075 新竹市科學園區工業東九路12號吳逸民
高材營一部
資深經理崇越科技股份有限公司
TEL:(03)564-2132 ext.3315
e-mail:dino.wu@topco-global.com
