描述
用途:
取代C2F6, C3F8之應用;並可降低PFC排放量及氣體減量。
規格:
For In-Situ tool(6″ and 8″) chamber clean
代理科慕-C4F8 Clean gas,在T/F CVD Chamber clean。
取代C2F6, C3F8之應用;並可降低PFC排放量及氣體減量。
For In-Situ tool(6″ and 8″) chamber clean
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