Integrative
Capabilities
Quality
Advanced
Production
Execution

NF3

内容简介

三氟化氮(NF3)是卤化氮中最稳定的,可在钙的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢雷射器的氧化剂,半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。

说明

三氟化氮(NF3)是一种优良的等离子蚀刻气体,具有优异的蚀刻速率和选择性,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂; 同时在晶片制造、高能雷射方面获得到了广大的运用。

产品联络人

吴逸民

高材营一部
资深经理

崇越科技股份有限公司

300096 新竹市科学园区工业东九路12号6楼
TEL: (03)564-2132 ext.3315
e-mail: dino.wu@topco-global.com

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