Integrative
Capabilities
Quality
Advanced
Production
Execution

特殊气体

内容简介

代理科慕-C4F8 Clean gas,在T/F CVD Chamber clean。

描述

用途:

取代C2F6, C3F8之应用;并可降低PFC排放量及气体减量。

规格:

For In-Situ tool(6″ and 8″) chamber clean

产品联络人

吴逸民

高材营一部
资深经理

崇越科技股份有限公司

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