化学品>特用化学品NF3三氟化氮(NF3)是卤化氮中最稳定的,可在钙的催化下由氨气与氟气制成。它可以用作氟化氢雷射器的氧化剂,半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。 产品说明产品联络人其他相關產品产品说明 三氟化氮(NF3)是一种优良的等离子蚀刻气体,具有优异的蚀刻速率和选择性。 在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂。 同时在晶片制造、高能雷射方面获得到了广大的运用。 产品联络人吴逸民崇越科技股份有限公司资深经理高材营一部TEL: (03)564-2132 ext.3315dino.wu@topco-global.com其他相關產品TCSPDMATDCS10ppm Xenon/3.5% Argon/Balance Neon1.25% Kr/Ne1% SiH4(6N)/H2(6N)